[实用新型]衬垫及晶片抛光工装有效
| 申请号： | 201721867447.4 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN207616354U | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 潘相成;陈虹 | 申请（专利权）人： | 常州市好利莱光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 黄彩荣 |
| 地址： | 213000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种衬垫及晶片抛光工装，涉及抛光技术领域。一种衬垫，用于抛光。衬垫包括相对设置的第一缓冲层和第二缓冲层。第一缓冲层和第二缓冲层之间设置有纤维板，且第一缓冲层和第二缓冲层均与纤维板连接。对陶瓷、蓝宝石、玻璃等各类材质进行抛光时，均可使用该衬垫将抛光工装上的陶瓷盘与压力盘间隔开来。第一缓冲层和第二缓冲层能够缓冲减压，并能够减少陶瓷盘的磨损，从而有利于控制产品抛光品质。纤维板强度较高，能够承受较大的压力，避免衬垫由于压力过高而造成损坏。本实用新型还提供一种晶片抛光工装，包括上述衬垫。陶瓷盘的良好保护，使得产品的抛光精度更好，也更易于控制产品的抛光品质。 | ||
| 搜索关键词： | 缓冲层 纤维板 抛光 陶瓷盘 本实用新型 晶片抛光 抛光工装 抛光品质 工装 抛光技术领域 蓝宝石 相对设置 减压 压力盘 缓冲 种晶 磨损 陶瓷 玻璃 | ||
【主权项】：
1.一种衬垫，用于抛光，其特征在于，所述衬垫包括相对设置的第一缓冲层和第二缓冲层，所述第一缓冲层和所述第二缓冲层之间设置有纤维板，且所述第一缓冲层和所述第二缓冲层均与所述纤维板连接。
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