[实用新型]掩膜版夹具及晶圆曝光装置有效
| 申请号： | 201721857233.9 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN207611234U | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 周阳;葛伟伟;黄志凯 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种掩膜版夹具及晶圆曝光装置。所述掩膜版夹具，包括用于容纳掩膜版的腔体，还包括相互连接的传感器和冷却组件；所述传感器用于检测所述腔体内掩膜版的温度；所述冷却组件，用于向所述掩膜版吹扫氮气，并根据所述掩膜版的温度改变氮气的流速，以调整所述掩膜版的温度。本实用新型在实现对掩膜版冷却降温的同时，也达到了对掩膜版温度精准控制的效果，从根本上解决了曝光过程中掩膜版易发生形变的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 夹具 氮气 本实用新型 冷却组件 曝光装置 传感器 晶圆 半导体制造技术 精准控制 冷却降温 曝光过程 形变 吹扫 腔体 体内 容纳 检测 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版夹具，包括用于容纳掩膜版的腔体，其特征在于，还包括相互连接的传感器和冷却组件；所述传感器用于检测所述腔体内掩膜版的温度；所述冷却组件，用于向所述掩膜版吹扫氮气，并根据所述掩膜版的温度改变氮气的流速，以调整所述掩膜版的温度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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