[实用新型]光学元件加工装置及其系统有效
| 申请号： | 201721840113.8 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN207780285U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 侯晶;陈贤华;钟波;邓文辉;王健;许乔 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 蔡蓉 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种光学元件加工装置及其系统，属于光学设备技术领域。一种光学元件加工装置，包括架体、用于对光学元件进行加工的刻蚀组件及用于控制架体和刻蚀组件的控制装置，刻蚀组件设置于架体，控制装置与架体、刻蚀组件电连接；刻蚀组件包括挥发液储液槽、刻蚀液回收槽、加工头、挥发液供液器以及至少两个刻蚀液供液器。该装置适用于不同材质的光学元件，扩大应用范围，提高利用率，降低加工成本。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 光学元件加工 架体 装置及其系统 光学元件 控制装置 供液器 挥发液 刻蚀液 本实用新型 组件电连接 光学设备 组件包括 组件设置 储液槽 回收槽 加工头 控制架 加工 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件加工装置，其特征在于，包括架体、用于对光学元件进行加工的刻蚀组件及用于控制所述架体和所述刻蚀组件的控制装置，所述刻蚀组件设置于所述架体，所述控制装置与所述架体、所述刻蚀组件电连接；所述刻蚀组件包括挥发液储液槽、刻蚀液回收槽、加工头、挥发液供液器以及至少两个刻蚀液供液器，所述刻蚀液回收槽设置于所述挥发液储液槽内用于回收刻蚀液，所述加工头设置于所述刻蚀液回收槽内，所述加工头的流体流动方向与所述挥发液储液槽的开口方向平行，所述挥发液供液器与所述挥发液储液槽连通用于向所述挥发液储液槽提供挥发液，每个所述刻蚀液供液器分别与所述刻蚀液回收槽、所述加工头连通，用于向所述加工头提供刻蚀液。
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