[实用新型]光学元件加工装置及其系统

说明书

本实用新型提供了一种光学元件加工装置及其系统，属于光学设备技术领域。一种光学元件加工装置，包括架体、用于对光学元件进行加工的刻蚀组件及用于控制架体和刻蚀组件的控制装置，刻蚀组件设置于架体，控制装置与架体、刻蚀组件电连接；刻蚀组件包括挥发液储液槽、刻蚀液回收槽、加工头、挥发液供液器以及至少两个刻蚀液供液器。该装置适用于不同材质的光学元件，扩大应用范围，提高利用率，降低加工成本。

技术领域

本实用新型涉及光学设备技术领域，具体而言，涉及一种光学元件加工装置及其系统。

背景技术

磷酸二氢钾(KDP)晶体作为优质的非线性光学材料，被广泛地应用于激光和非线性光学领域。在高功率固体激光装置中，KDP晶体主要用作光学频率转换器件以及电光开关元件，其中频率转换器件将红外激光光束转换为紫外的三倍频激光光束，三倍频激光是进行激光惯性约束聚变物理实验所必需的。高质量的晶体光学元件在激光装置中占有很重要的地位。KDP晶体属于水溶性晶体，表面易潮解。目前加工KDP晶体的主要方式是采用天然单点金刚石刀具以飞刀切削的方法将晶体材料直接切削成光学表面，但晶体表面会产生切削的刀纹纹路，导致元件的中频误差较大。

目前，对玻璃元件的面型加工技术主要有：传统光学元件加工技术，旋转抛光盘的小工具数控抛光技术、利用磁场来改变散粒磨料粘度的磁流变抛光技术和离子束抛光技术。上述技术在实际运用中存在一些缺点，传统光学元件加工技术和小工具数控抛光技术依赖于需校准的材料去除率，其加工过程必然是一迭代过程，批量化成本较高；散粒磨料小工具抛光技术在加工过程中由于存在局部的机械应力，因而无法加工超薄的元件，而且容易形成无法去除的亚表面缺陷以及表面的污染层；离子束抛光需要配备大型的真空罩，设备成本很高。在对不同材质的光学元件需要的刻蚀液也不同，需要用不同的仪器进行加工，成本较高。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提出了一种新的光学元件加工装置，适用于不同材质的光学元件，扩大应用范围，提高利用率，降低加工成本。

本实用新型又提出了一种光学元件加工系统，适用于不同材质的光学元件，扩大应用范围，提高利用率，降低加工成本。

本实用新型是这样实现的：

一种光学元件加工装置，包括架体、用于对光学元件进行加工的刻蚀组件及用于控制架体和刻蚀组件的控制装置，刻蚀组件设置于架体，控制装置与架体、刻蚀组件电连接；

刻蚀组件包括挥发液储液槽、刻蚀液回收槽、加工头、挥发液供液器以及至少两个刻蚀液供液器，刻蚀液回收槽设置于挥发液储液槽内用于回收刻蚀液，加工头设置于刻蚀液回收槽内，加工头的流体流动方向与挥发液储液槽的开口方向平行，挥发液供液器与挥发液储液槽连通用于向挥发液储液槽提供挥发液，每个刻蚀液供液器分别与刻蚀液回收槽、加工头连通，用于向加工头提供刻蚀液。

进一步地，在本实用新型较佳实施例中，刻蚀液供液器包括刻蚀液槽，刻蚀液槽通过输液管与刻蚀液回收槽的底部连通。

进一步地，在本实用新型较佳实施例中，刻蚀液供液器还包括调节阀和供液泵，调节阀设置于刻蚀液槽与刻蚀液回收槽之间，供液泵与刻蚀液槽连接。

进一步地，在本实用新型较佳实施例中，加工头内设有容纳腔，容纳腔远离刻蚀液回收槽底部的一端设有出液口，出液口的外径沿出液口延伸的方向逐渐减小。

进一步地，在本实用新型较佳实施例中，架体包括底座、运动杆、支撑架及固定部，运动杆设置于底座的顶面且可相对于底座移动，支撑架的一端与底座连接，固定部设置于支撑架远离底座的一端。

进一步地，在本实用新型较佳实施例中，运动杆的一端与底座连接，另一端与刻蚀组件连接。

进一步地，在本实用新型较佳实施例中，刻蚀液供液器还包括用于对刻蚀液进行净化的过滤器，过滤器设置于输液管。