[实用新型]蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201721756011.8 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN207828399U 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 杜小波;吴海东;李彦松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/56
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;夏东栋
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型的实施例涉及一种蒸镀设备,包括蒸镀腔,所述蒸镀腔包括至少一个至少部分地向腔内辐射微波的微波发射器。本实用新型实施例提供的蒸镀设备对蒸镀腔内的水汽进行针对性的去除,能够高效、低能耗且迅速地去除蒸镀腔内和材料中的残留水汽,以确保腔内的真空度,提高所加工的电子器件的性能和寿命,同时尽量避免对其他构件的影响。
搜索关键词: 蒸镀腔 蒸镀设备 本实用新型 水汽 腔内 去除 微波发射器 电子器件 低能耗 微波 残留 辐射 加工
【主权项】:
1.一种蒸镀设备,包括蒸镀腔,其特征在于,所述蒸镀设备还包括至少一个微波发射器,其以如下的至少一种方式来布置:安装在蒸镀腔内部,设置在蒸镀腔的腔壁的内表面上,以及嵌入到蒸镀腔的腔壁,从而至少部分地向腔内辐射微波。
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