[实用新型]蒸镀设备有效
| 申请号： | 201721756011.8 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN207828399U | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 杜小波;吴海东;李彦松 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 黄威;夏东栋 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀腔 蒸镀设备 本实用新型 水汽 腔内 去除 微波发射器 电子器件 低能耗 微波 残留 辐射 加工 | ||
1.一种蒸镀设备，包括蒸镀腔，其特征在于，所述蒸镀设备还包括至少一个微波发射器，其以如下的至少一种方式来布置：安装在蒸镀腔内部，设置在蒸镀腔的腔壁的内表面上，以及嵌入到蒸镀腔的腔壁，从而至少部分地向腔内辐射微波。
2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述微波发射器包括波导管，所述波导管与位于所述蒸镀腔外部的微波发生器耦接，所述微波发生器的天线伸入波导管。
3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述微波发射器包括微波发生器。
4.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备包括：
位于所述蒸镀腔内的蒸发源；以及
支撑柱，用于承载待蒸镀的基板和与基板对位的掩膜板，其中，至少一个微波发射器设置在所述支撑柱上。
5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述支撑柱包括：
基部，连接到所述蒸镀室的腔壁；以及
支撑部，其从所述基部延伸，并形成面向所述蒸发源的开口，其中，至少一个微波发射器设置在所述支撑部的外壁上。
6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述支撑部包括对称设置的臂部。
7.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述支撑部在远离所述基部的一侧上设置有延伸部，至少一个微波发射器设置在所述延伸部的远离所述基部的侧壁上。
8.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，至少一个微波发射器与待蒸镀的基板之间设有遮挡件。
9.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀腔包括至少一个微波吸收板。
10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，所述至少一个微波吸收板位于所述蒸镀腔腔壁的顶端。
11.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，包括至少一个微波吸收板，所述至少一个微波吸收板位于待蒸镀的基板的一侧。
12.根据权利要求11所述的蒸镀设备，其特征在于，在待蒸镀的基板的两侧分别设有至少一个微波吸收板。
13.根据权利要求9-12任一所述的蒸镀设备，其特征在于，所述微波吸收板包括微波吸收部和冷却装置。
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