[实用新型]一种用于激光装置打靶精度测试的测试靶有效

专利信息
申请号: 201721707170.9 申请日: 2017-12-11
公开(公告)号: CN207456741U 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 张晓璐;代万俊;曾发;李平;赵军普;薛峤;张璐;杨品;王深圳;粟敬钦;郑奎兴;朱启华 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 饶富春
地址: 621900 四川省绵*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种用于激光装置打靶精度测试的测试靶,属于激光惯性约束聚变技术领域,所述测试靶包括靶面,所述靶面包括金箔层和碳氢膜层,所述金箔层共设2层,所述碳氢膜层位于2层金箔层之间,且激光装置发射的激光束同时呈对称式入射至金箔层表面,所述金箔层上设有多个第一凹槽和多个第二凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽交错设置形成多个交叉点作为靶孔,所述第一凹槽和第二凹槽的槽深与金箔层的层厚相等,本实用新型采用金箔层、碳氢膜层、金箔层逐层堆叠的平面靶结构,各激光束可以同时打在测试靶的正反两面,能够在一次试验中完成甚多束激光束的打靶精度测试,节省打靶精度的测试时间,提高打靶精度的测试效率。
搜索关键词: 金箔层 测试 激光装置 精度测试 激光束 膜层 碳氢 本实用新型 靶面 激光惯性约束聚变 测试效率 交错设置 正反两面 层堆叠 对称式 平面靶 靶孔 槽深 层厚 入射 相等 发射 试验
【主权项】:
一种用于激光装置打靶精度测试的测试靶,包括靶面,其特征在于,所述靶面包括金箔层和碳氢膜层,所述金箔层共设2层,所述碳氢膜层位于2层金箔层之间,且激光装置发射的激光束同时呈对称式入射至金箔层表面;所述金箔层上设有多个第一凹槽和多个第二凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽的延伸方向不同,且两者交错设置形成多个交叉点作为靶孔,所述第一凹槽和第二凹槽的槽深与金箔层的层厚相等,相邻2个交叉点的中心距不小于入射至金箔层表面的激光束光斑直径的2倍。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721707170.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top