[实用新型]一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置

摘要

本实用新型公开了一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，包括半导体激光器、斩波器、检测光系统、参考光系统和光电探测装置，装置的核心功能：采用多个波长的半导体激光器入射到金属介质膜光栅表面，检测光系统采集‑1级衍射光，并通过二维扫描大面积金属介质膜光栅，完成整个光栅面的衍射效率的测量。本新装置采用了双光路检测和斩波器，抑制激光器功率漂移和环境背景光干扰。

主权项

1.一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，包括二维扫描平移台、可旋转光源支架、驱动电机、若干个不同波长的半导体激光光源、斩波器、分光镜、第一积分球、第一光电探测器、第二积分球、第二光电探测器；其中所述的若干个不同波长的半导体激光光源安装在所述的可旋转光源支架上，可旋转光源支架由传动机构与所述驱动电机相连接，在检测光路上依次设置所述的斩波器、分光镜，其中所述斩波器的透光面积和挡光面积相等，入射光经过所述分光镜后透射光作为信号光入射到待测大面积金属介质膜光栅表面上，‑1级衍射光进入第一积分球的入窗口，第一积分球的出窗口放置第一光电探测器，入射光经过分光镜后反射光作为参考光，进入第二积分球的入窗口，第二积分球的出窗口处放置第二光电探测器，其中待测大面积金属介质膜光栅放置在所述二维扫描平移台上。