[实用新型]一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置

权利要求书

1.一种大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，包括二维扫描平移台、可旋转光源支架、驱动电机、若干个不同波长的半导体激光光源、斩波器、分光镜、第一积分球、第一光电探测器、第二积分球、第二光电探测器；

其中所述的若干个不同波长的半导体激光光源安装在所述的可旋转光源支架上，可旋转光源支架由传动机构与所述驱动电机相连接，在检测光路上依次设置所述的斩波器、分光镜，其中所述斩波器的透光面积和挡光面积相等，入射光经过所述分光镜后透射光作为信号光入射到待测大面积金属介质膜光栅表面上，-1级衍射光进入第一积分球的入窗口，第一积分球的出窗口放置第一光电探测器，入射光经过分光镜后反射光作为参考光，进入第二积分球的入窗口，第二积分球的出窗口处放置第二光电探测器，其中待测大面积金属介质膜光栅放置在所述二维扫描平移台上。

2.根据权利要求1所述的大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，其特征在于所述斩波器与所述分光镜之间放置有光阑。

3.根据权利要求1所述的大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，其特征在于所述分光镜为偏振分光棱镜，在该偏振分光棱镜与待测大面积金属介质膜光栅之间还放置有半波片。

4.根据权利要求1～3之一所述的大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，其特征在于第一积分球和第一光电探测器放置在电控角度旋转台上，切换不同波长的半导体激光光源时，始终满足dsinθ_c-dsinθ_i＝mλ_i，其中d为光栅的周期，θ_c为信号光入射至待测大面积金属介质膜光栅表面的入射角度，θ_i为-1级衍射光角度m＝-1，λ_i为半导体激光光源波长。

5.根据权利要求1～3之一所述的大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，其特征在于所述斩波器的通光频率为f，第一光电探测器的采样频率为2f，第二电探测器的采样频率为2f。

6.根据权利要求1～3之一所述的大面积金属介质膜光栅衍射效率测量的装置，其特征在于所述的第一光电探测器和第二光电探测器之间由同一个开关连接。