[实用新型]辐射图像校正系统有效

专利信息
申请号: 201721572276.2 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN207601853U 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 涂俊杰;刘必成;徐强;李荐民;王永明;李玉兰;宗春光;李元景;马媛;陈志强;于昊;张丽;喻卫丰;许艳伟 申请(专利权)人: 同方威视技术股份有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T3/40
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 许蓓
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种辐射图像校正系统,涉及辐射成像领域。该系统包括:激光扫描仪,辐射装置,成像装置,以及辐射图像校正装置。本公开利用激光扫描仪作为图像校正的传感设备,监测精度比较高,能够提高辐射图像校正的实时性。
搜索关键词: 辐射图像 激光扫描仪 校正系统 本实用新型 成像装置 传感设备 辐射成像 辐射装置 图像校正 校正装置 实时性 校正 监测
【主权项】:
1.一种辐射图像校正系统,包括:激光扫描仪,辐射装置,成像装置,以及辐射图像校正装置;其中,所述激光扫描仪被配置为发射激光对被检对象进行扫描,将扫描数据传输给所述辐射图像校正装置;所述辐射装置被配置为向被检对象发射辐射射线束,并将检测到的透过被检对象的辐射射线信号传输给所述成像装置;所述成像装置被配置为根据所述辐射装置检测到的辐射射线信号进行成像;所述辐射图像校正装置与所述辐射装置电连接,并被配置为将基于扫描数据确定的改变扫描频率类型的校正数据传输给所述辐射装置,使所述辐射装置改变对被检对象的扫描频率,或者,所述辐射图像校正装置与所述成像装置电连接,并被配置为在基于扫描数据确定的运动状态符合预设条件的情况下,对所述成像装置所形成的辐射图像进行插值或抽列的校正处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同方威视技术股份有限公司,未经同方威视技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721572276.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top