[实用新型]一种二氧化硅薄膜的生产设备有效
申请号: | 201721565925.6 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN207793421U | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 孙维习 | 申请(专利权)人: | 天津龙华诚信粉体技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/455 |
代理公司: | 天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12224 | 代理人: | 张淑华 |
地址: | 300000 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种二氧化硅薄膜的生产设备,包括氮气生成罐、臭氧发生罐和反应腔室,所述氮气生成罐侧面设有固定环,所述固定环嵌套设置于所述氮气生成罐上,所述氮气生成罐侧面的一端设有密封盖,所述密封盖覆盖设置于所述氮气生成罐上,所述密封盖侧面设有活动轴,且所述密封盖与所述氮气生成罐通过所述活动轴活动连接,所述密封盖一侧设有阀杆,所述阀杆嵌入设置于所述密封盖内,所述阀杆顶部设有阀门,所述阀门与所述密封盖通过所述阀杆活动连接,此种二氧化硅薄膜的生产设备,工作效率高,资源利用合理,材料得到有效利用,产品质量更高,使用寿命长,而且使用灵活,装卸便捷,铸造成本小,具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 密封盖 氮气 二氧化硅薄膜 生产设备 固定环 活动轴 侧面 阀杆 阀门 嵌套 本实用新型 臭氧发生罐 工作效率高 阀杆顶部 阀杆活动 反应腔室 活动连接 嵌入设置 使用寿命 资源利用 装卸 铸造 灵活 覆盖 应用 | ||
【主权项】:
1.一种二氧化硅薄膜的生产设备,包括氮气生成罐(1)、臭氧发生罐(9)和反应腔室(17),其特征在于:所述氮气生成罐(1)侧面设有固定环(2),所述固定环(2)嵌套设置于所述氮气生成罐(1)上,所述氮气生成罐(1)侧面的一端设有密封盖(5),所述密封盖(5)覆盖设置于所述氮气生成罐(1)上,所述密封盖(5)侧面设有活动轴(4),且所述密封盖(5)与所述氮气生成罐(1)通过所述活动轴(4)活动连接,所述密封盖(5)一侧设有阀杆(6),所述阀杆(6)嵌入设置于所述密封盖(5)内,所述阀杆(6)顶部设有阀门(7),所述阀门(7)与所述密封盖(5)通过所述阀杆(6)活动连接,所述氮气生成罐(1)一侧设有臭氧发生罐(9),所述氮气生成罐(1)和所述臭氧发生罐(9)一侧均设有输送管(10),所述输送管(10)分别嵌入设置于所述氮气生成罐(1)和所述臭氧发生罐(9)内,所述输送管(10)一侧设有过滤腔室(12),所述过滤腔室(12)顶部设有过滤器(13),所述过滤器(13)覆盖设置于所述过滤腔室(12)上,并与所述过滤腔室(12)通过螺栓固定连接,所述过滤腔室(12)侧面设有检修门(14),所述检修门(14)覆盖设置于所述过滤腔室(12)上,所述检修门(14)一侧设有转轴(16),所述转轴(16)嵌入设置于所述检修门(14)内,且所述检修门(14)与所述过滤腔室(12)通过所述转轴(16)活动连接,所述过滤腔室(12)一侧设有反应腔室(17)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的