[实用新型]一种二氧化硅薄膜的生产设备

说明书

本实用新型公开了一种二氧化硅薄膜的生产设备，包括氮气生成罐、臭氧发生罐和反应腔室，所述氮气生成罐侧面设有固定环，所述固定环嵌套设置于所述氮气生成罐上，所述氮气生成罐侧面的一端设有密封盖，所述密封盖覆盖设置于所述氮气生成罐上，所述密封盖侧面设有活动轴，且所述密封盖与所述氮气生成罐通过所述活动轴活动连接，所述密封盖一侧设有阀杆，所述阀杆嵌入设置于所述密封盖内，所述阀杆顶部设有阀门，所述阀门与所述密封盖通过所述阀杆活动连接，此种二氧化硅薄膜的生产设备，工作效率高，资源利用合理，材料得到有效利用，产品质量更高，使用寿命长，而且使用灵活，装卸便捷，铸造成本小，具有广阔的应用前景。

技术领域

本实用新型涉及生产设备技术领域，具体为一种二氧化硅薄膜的生产设备。

背景技术

材料的磨损、腐蚀及其环境损伤是现代工业面临的基本问题之一，解决这个问题的有效途径是通过各种表面处理技术来强化材料的表面，表面处理是运用各种技术改变材料表面的化学组成、结构、显微组织和应力状态，以提高材料抗御环境破坏作用的能力，这些表面技术，可以分为原子沉积、颗粒沉积、整体沉积和表面改性等类型，二氧化硅膜是一种无定形玻璃状结构的电解质膜，为近程有序网状结构，采用在硅片上热氧化、阳极氧化、化学气相沉积法制备，是半导体硅器件的优良的表面保护膜和表面钝化膜。

但现有的二氧化硅薄膜的生产设备，多采用CVD技术生产，然而现有CVD镀膜技术仍局限于半导体集成电路生产领域，主要用于制造外延膜和绝缘保护膜等，其CVD之控制过程影响因素繁多，工艺尚不稳定，此外传统的二氧化硅薄膜的生产设备密封效果不够好，而生产二氧化硅薄膜所需要的氮气和臭氧等辅助材料多为气态，由于密封效果差，这些材料容易泄露，容易造成环境污染或安全事故。

所以，如何设计一种二氧化硅薄膜的生产设备，成为我们当前要解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种二氧化硅薄膜的生产设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种二氧化硅薄膜的生产设备，包括氮气生成罐、臭氧发生罐和反应腔室，所述氮气生成罐侧面设有固定环，所述固定环嵌套设置于所述氮气生成罐上，所述氮气生成罐侧面的一端设有密封盖，所述密封盖覆盖设置于所述氮气生成罐上，所述密封盖侧面设有活动轴，且所述密封盖与所述氮气生成罐通过所述活动轴活动连接，所述密封盖一侧设有阀杆，所述阀杆嵌入设置于所述密封盖内，所述阀杆顶部设有阀门，所述阀门与所述密封盖通过所述阀杆活动连接，所述氮气生成罐一侧设有臭氧发生罐，所述氮气生成罐和所述臭氧发生罐一侧均设有输送管，所述输送管分别嵌入设置于所述氮气生成罐和所述臭氧发生罐内，所述输送管一侧设有过滤腔室，所述过滤腔室顶部设有过滤器，所述过滤器覆盖设置于所述过滤腔室上，并与所述过滤腔室通过螺栓固定连接，所述过滤腔室侧面设有检修门，所述检修门覆盖设置于所述过滤腔室上，所述检修门一侧设有转轴，所述转轴嵌入设置于所述检修门内，且所述检修门与所述过滤腔室通过所述转轴活动连接，所述过滤腔室一侧设有反应腔室。

进一步的，所述固定环底部设有支架，所述支架侧面设有锁紧螺栓，所述支架与所述固定环通过所述锁紧螺栓固定连接。

进一步的，所述检修门侧面设有密封垫，所述密封垫嵌套设置于所述检修门侧面，并与所述检修门通过胶水粘合。

进一步的，所述输送管顶部设有控制阀，所述控制阀嵌入设置于所述输送管内。

进一步的，所述反应腔室内部设有待成基膜片，所述待成基膜片顶部设有表面刚性层。