[实用新型]投射模组有效

专利信息
申请号: 201721462649.0 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN207216260U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 王献冠;钟亮洪;江隆业 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种投射模组,包括底座,以及安装在其上的光源,该光源用于发射发散光束;安装在底座上方的透镜系统,用于准直及扩束所述发散光束并发射出准直光束;安装在底座上方的衍射光学元件,接收所述准直光束并发射出结构光图案化光束;所述准直光束的截面尺寸大于所述发散光束入射到所述透镜系统的表面上形成的入射光斑的尺寸;所述准直光束具有不同的出射方向。通过合理设置了投影系统的结构,能够对光源发出的光束进行准直及扩束后发射出准直光束,而不是简单的聚焦,从而提高了投影的质量。
搜索关键词: 投射 模组
【主权项】:
一种投射模组,其特征在于,包括:底座;光源阵列,安装在所述底座上,包括至少两个子光源,用于发射阵列发散光束;透镜系统,安装在所述底座上方,包括入射面以及出射面,其中:所述入射面接收所述阵列发散光束,所述阵列发散光束在所述入射面上形成由入射光斑组成的入射光斑排列图案,所述入射光斑由单个所述发散光束形成,所述入射光斑排列图案的排布形式与所述光源阵列中子光源的排布对应;所述出射面向外发射与阵列发散光束对应的至少两个准直光束,所述至少两个准直光束在所述出射面上形成出射光斑排列图案;所述出射光斑排列图案比所述入射光斑排列图案具有更高的重合度。
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