[实用新型]一种半导体后段切割工艺的新型铁环有效
| 申请号: | 201721326867.1 | 申请日: | 2017-10-16 |
| 公开(公告)号: | CN207327340U | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
| 发明(设计)人: | 任启刚;徐晶骥 | 申请(专利权)人: | 上海东煦电子科技有限公司 |
| 主分类号: | B28D7/04 | 分类号: | B28D7/04;H01L21/67 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 200135 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型提供了一种半导体后段切割工艺的新型铁环,包括:铁环,所述铁环设有一内圈,所述内圈为方形结构,所述方形结构上贴有长方形的料条,本实用新型提供一种简单、低成本的新型铁环,将铁环内圈由圆形改为方形,能够更加优化内圈面积的利用率,提高工作效率,减少材料的浪费。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 后段 切割 工艺 新型 铁环 | ||
【主权项】:
1.一种半导体后段切割工艺的新型铁环,其特征在于,包括:铁环,所述铁环设有一内圈,所述内圈为方形结构,所述方形结构上贴有长方形的料条。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海东煦电子科技有限公司,未经上海东煦电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721326867.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种多人脚蹬车
- 下一篇:一种气水分离器的膜片结构





