[实用新型]一种温场可调的碳化硅晶体生长炉有效
申请号: | 201720786632.4 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN207109157U | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 宗艳民;李长进 | 申请(专利权)人: | 山东天岳先进材料科技有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;C30B29/36 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司37205 | 代理人: | 苗峻 |
地址: | 250100 山东省济南市高新区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型属于晶体生长技术领域,具体涉及一种温场可调的碳化硅晶体生长炉,包括炉体和上炉盖以及下炉盖,炉体内设有坩埚,坩埚上方设有籽晶轴,上炉盖上设有观察窗,观察窗上设有冷却夹套,冷却夹套上设有气体进口和气体出口;上炉盖、下炉盖以及炉体的内壁均设有反射层;坩埚外部设有首尾连接的上加热体、侧加热体和下加热体,所述的上加热体、侧加热体和下加热体均连接有汽缸。采用本实用新型不仅可以实现温场的调节,而且有效解决了观察窗容易被遮挡的问题,延长了观察窗的使用时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 可调 碳化硅 晶体生长 | ||
【主权项】:
一种温场可调的碳化硅晶体生长炉,包括炉体(1)和上炉盖(2)以及下炉盖(3),炉体(1)内设有坩埚(4),坩埚(4)上方设有籽晶轴(5),其特征在于:上炉盖(2)上设有观察窗(6),观察窗(6)上设有冷却夹套(7),冷却夹套(7)上设有气体进口(8)和气体出口(9);上炉盖(2)、下炉盖(3)以及炉体(1)的内壁均设有反射层(10);坩埚(4)外部设有首尾连接的上加热体(11)、侧加热体(12)和下加热体(13),所述的上加热体(11)、侧加热体(12)和下加热体(13)均连接有汽缸(14)。
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