[实用新型]一种温场可调的碳化硅晶体生长炉有效

专利信息
申请号: 201720786632.4 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN207109157U 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 宗艳民;李长进 申请(专利权)人: 山东天岳先进材料科技有限公司
主分类号: C30B35/00 分类号: C30B35/00;C30B29/36
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司37205 代理人: 苗峻
地址: 250100 山东省济南市高新区*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 可调 碳化硅 晶体生长
【权利要求书】:

1.一种温场可调的碳化硅晶体生长炉,包括炉体(1)和上炉盖(2)以及下炉盖(3),炉体(1)内设有坩埚(4),坩埚(4)上方设有籽晶轴(5),其特征在于:上炉盖(2)上设有观察窗(6),观察窗(6)上设有冷却夹套(7),冷却夹套(7)上设有气体进口(8)和气体出口(9);上炉盖(2)、下炉盖(3)以及炉体(1)的内壁均设有反射层(10);坩埚(4)外部设有首尾连接的上加热体(11)、侧加热体(12)和下加热体(13),所述的上加热体(11)、侧加热体(12)和下加热体(13)均连接有汽缸(14)。

2.根据权利要求1所述的一种温场可调的碳化硅晶体生长炉,其特征在于:所述的气体出口(9)位于炉体(1)内部。

3.根据权利要求1所述的一种温场可调的碳化硅晶体生长炉,其特征在于:所述的籽晶轴(5)粘贴籽晶的面上设有凹槽(16)。

4.根据权利要求1所述的一种温场可调的碳化硅晶体生长炉,其特征在于:所述的观察窗(6)上设有滤光片(17)。

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