[实用新型]一种稳定镓源反应器有效
| 申请号： | 201720629599.4 | 申请日： | 2017-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN207031602U | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 特洛伊·乔纳森·贝克;王颖慧 | 申请（专利权）人： | 镓特半导体科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/40 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人： | 姚艳 |
| 地址： | 201306 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种稳定镓源反应器，其至少包括依次叠置的至少两层反应层；位于相邻两层反应层之间的气体通道；位于最上层反应层的顶端的进气管道；以及，位于最下层反应层的底端的出气管道。本实用新型采用多层反应层叠置在一起，相邻两层反应层之间通过气体通道连通，液态金属镓预先通过进气管道和各气体通道注入到各反应层中，然后通入氯化氢气体进行反应，氯化氢气体从进气管道进入最上层反应层，随后从气体通道向下进入相邻两层反应层，并逐层通过所有反应层，最终生成的氯化镓气体从出气管道流出，从而能够确保氯化氢气体充分与金属镓进行反应。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 稳定 反应器 | ||
【主权项】：
一种稳定镓源反应器，其特征在于，所述稳定镓源反应器至少包括：依次叠置的至少两层反应层；位于相邻两层反应层之间的气体通道；位于最上层反应层的顶端的进气管道；以及，位于最下层反应层的底端的出气管道。
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