[实用新型]磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201720618725.6 | 申请日： | 2017-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN207047313U | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 彭燚 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 | 代理人： | 张乐乐 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种磁控溅射装置，包括靶材位置、基板、电场部件及磁体。基板与靶材平行且相对所需间距设置，电场部件用于产生电场方向垂直于靶材的静电场；磁体悬空且平行于靶材设置在靶材与基板之间，磁体具有将靶材包围在其内的区域，区域中具有磁场方向平行于靶材的固定磁场，固定磁场的磁场方向与静电场的电场方向正交。在溅射过程中，磁体的区域产生匀强磁场，不产生额外的能耗；在正交的磁场与电场的作用下，惰性气体中不断地电离出原子并沉积在基板表面上，避免了靶面上不同位置的溅射速率不同和刻蚀槽的形成，从而提高了靶材的利用率，延长了靶材的使用寿命，并且保证了基板上成膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射装置，其特征在于，包括靶材位置，用于放置靶材(3)；基板(1)，与所述靶材(3)平行且相对所需间距设置；电场部件，用于在所述基板(1)与所述靶材(3)之间产生静电场(5)；磁体(2)，悬空且平行于所述靶材(3)设置在所述靶材(3)与所述基板(1)之间；所述磁体(2)具有将所述靶材(3)包围在其内的区域，所述区域中具有磁场方向平行于所述靶材(3)的固定磁场(6)，所述固定磁场(6)的磁场方向与所述静电场(5)的电场方向正交。
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