[实用新型]磁控溅射装置

权利要求书

1.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括

靶材位置，用于放置靶材(3)；

基板(1)，与所述靶材(3)平行且相对所需间距设置；

电场部件，用于在所述基板(1)与所述靶材(3)之间产生静电场(5)；

磁体(2)，悬空且平行于所述靶材(3)设置在所述靶材(3)与所述基板(1)之间；所述磁体(2)具有将所述靶材(3)包围在其内的区域，所述区域中具有磁场方向平行于所述靶材(3)的固定磁场(6)，所述固定磁场(6)的磁场方向与所述静电场(5)的电场方向正交。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述磁体(2)包括第一部分(21)，及与所述第一部分(21)平行设置的第二部分(22)，所述第一部分(21)与所述第二部分(22)仅在其相互面对的一端具有极性且极性相反，且所述第一部分(21)与所述第二部分(22)之间形成容纳所述靶材(3)的区域。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述第一部分(21)和所述第二部分(22)均为条形磁铁；所述条形磁铁的一端上设置有磁轭。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述磁体(2)为蹄形磁铁，所述蹄形磁铁的U形区域将所述靶材(3)包围。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的磁控溅射装置，其特征在于：还包括基座(4)，所述靶材(3)固定在所述基座(4)上。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述基座(4)的外周边缘伸出所述靶材(3)的外周边缘，所述磁体(2)设置在所述基座(4)上伸出所述靶材(3)边缘的顶部表面与所述基板(1)之间的空间内。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述电场部件包括向所述基板(1)提供正电压的第一电源，和向所述靶材(3)提供负电压的第二电源。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的磁控溅射装置，其特征在于：还包括填充在所述靶材(3)与基板(1)之间的惰性气体。