[实用新型]一种采用气体冷却的刻蚀样品台有效
| 申请号: | 201720482892.2 | 申请日: | 2017-05-04 |
| 公开(公告)号: | CN206672895U | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
| 发明(设计)人: | 关江敏;赵一;徐靖 | 申请(专利权)人: | 北京创世威纳科技有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京尚德技研知识产权代理事务所(普通合伙)11378 | 代理人: | 陈晓平 |
| 地址: | 100085 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本实用新型公开一种采用气体冷却的刻蚀样品台,包括一升降底台,在升降底台的顶部设置有浅槽;升降底台上方设置有卡盘,卡盘底部设置有环形胶垫,升降底台顶部设置有环形密封垫;样品置于升降底台的顶部盖住所述浅槽,且随升降底台上升的过程中被压设在环形密封垫与环形胶垫之间,所述空腔中充有冷却的惰性气体。本实用新型实现了密封气体对刻蚀样品的冷却。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 采用 气体 冷却 刻蚀 样品 | ||
【主权项】:
一种采用气体冷却的刻蚀样品台,其特征在于:包括一升降底台,在所述升降底台的顶部设置有浅槽;所述升降底台周围布置有立柱,在所述立柱上固定有卡盘,所述卡盘位于所述升降底台的正上方;所述卡盘底部设置有环形胶垫,所述升降底台顶部环绕所述浅槽设置有环形密封垫;样品置于所述升降底台的顶部,盖住所述浅槽,且随所述升降底台一同上升的过程中被压设在所述环形密封垫与环形胶垫之间,使所述浅槽形成一密封空腔;所述空腔中充有冷却的惰性气体。
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