[实用新型]场发射电子源装置有效

专利信息
申请号: 201720435947.4 申请日: 2017-04-24
公开(公告)号: CN207338290U 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 石伟;梁栋;洪序达;胡战利;蒋昌辉 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01J3/02 分类号: H01J3/02;H01J9/44
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张静
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及场致电子发射领域。为了解决场发射阴极测试与老化过程中电流发射稳定性等问题,本实用新型提供了一种场发射电子源装置,其包括二极式场发射电子源、真空腔、真空泵机组、高压电源、高压脉冲驱动单元、真空环境监测单元和控制平台。二极式场发射电子源设置于真空腔内,并且,高压电源和高压脉冲驱动单元经真空腔法兰分别连接至二极式场发射电子源的阳极与阴极。控制平台经通讯线缆分别连接至高压电源、真空环境监测单元以及高压脉冲驱动单元。本实用新型通过对场发射电压进行反馈补偿,从而实现发射电流的稳定控制,具有较强的实用性。
搜索关键词: 发射 电子 装置
【主权项】:
1.一种场发射电子源装置,其特征在于:其包括二极式场发射电子源、真空腔、真空泵机组、高压电源、高压脉冲驱动单元、真空环境监测单元和控制平台,并且所述二极式场发射电子源设置于真空腔内,所述高压电源经所述真空腔的第一法兰连接至所述二极式场发射电子源的阳极,所述高压脉冲驱动单元经所述真空腔的第二法兰连接至所述二极式场发射电子源的阴极,所述真空环境监测单元经所述真空腔的第三法兰连接至所述真空腔,所述真空泵机组经所述真空腔的第四法兰连接至所述真空腔,所述控制平台经通讯线缆分别连接至所述高压电源、所述真空环境监测单元以及所述高压脉冲驱动单元。
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