[实用新型]一种静电吸盘有效

专利信息
申请号: 201720378260.1 申请日: 2017-04-11
公开(公告)号: CN206650063U 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 刘国家 申请(专利权)人: 中山市思考电子科技有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙)11362 代理人: 郭防
地址: 528445 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种静电吸盘,包括密封的反应仓,反应仓的顶部一端设有进气口,反应仓的底部另一端设有排气口,进气口连通反应气体供应装置,排气口连通排气泵;反应仓内进气口的下方设有基盘、第一绝缘层、第二绝缘层和吸附电极,第一绝缘层位于基盘的上方,第二绝缘层位于第一绝缘层的上方,吸附电极位于第一绝缘层和第二绝缘层之间;吸附电极接有电压调节装置,电压调节装置安装在反应仓的侧壁外,第二绝缘层上放有基板。本实用新型能够二氧化硅层沉积在晶圆表面。可以限定了二氧化硅的流通路径,使二氧化硅更容易沉积在基板上,从而提高芯片的生产效率。
搜索关键词: 一种 静电 吸盘
【主权项】:
一种静电吸盘,其特征在于,包括密封的反应仓(5),反应仓(5)的顶部一端设有进气口(2),反应仓(5)的底部另一端设有排气口(6),进气口(2)连通反应气体供应装置(1),排气口(6)连通排气泵(7);反应仓(5)内进气口(2)的下方设有基盘(8)、第一绝缘层(13)、第二绝缘层(11)和吸附电极(12),第一绝缘层(13)位于基盘(8)的上方,第二绝缘层(11)位于第一绝缘层(13)的上方,吸附电极(12)位于第一绝缘层(13)和第二绝缘层(11)之间;吸附电极(12)接有电压调节装置(14),电压调节装置(14)安装在反应仓(5)的侧壁外,第二绝缘层(11)上放有基板(9)。
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