[实用新型]一种两段蒸馏的真空炉有效
申请号: | 201720356588.3 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN207062351U | 公开(公告)日: | 2018-03-02 |
发明(设计)人: | 熊恒;杨斌;邓勇;雷浩成;徐宝强;刘大春;郁青春;王飞;田阳;张丁川 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C22B9/02 | 分类号: | C22B9/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种两段蒸馏的真空炉,属于真空冶金设备技术领域。该真空炉包括炉体、坩埚Ⅰ、坩埚Ⅱ、温控加热构件Ⅰ、温控加热构件Ⅱ、冷凝室、导气管、坩埚支架、支撑板Ⅰ、支撑板Ⅱ,热电偶Ⅰ、热电偶Ⅱ、热电偶Ⅲ,坩埚支架固定设置在炉体底部,坩埚Ⅰ设置在坩埚支架上,支撑板Ⅰ固定设置在炉体内壁,支撑板Ⅱ固定设置在炉体内壁,冷凝室固定设置在支撑板Ⅰ上端、坩埚Ⅱ设置在支撑板Ⅰ下端且固定设置在支撑板Ⅱ上端,冷凝室与坩埚Ⅱ连通,坩埚Ⅰ和坩埚Ⅱ通过导气管连通,温控加热构件Ⅰ与坩埚Ⅰ连接,温控加热构件Ⅱ与坩埚Ⅱ连接,热电偶Ⅰ设置在坩埚Ⅰ内,热电偶Ⅱ设置在坩埚Ⅱ内、热电偶Ⅲ设置在导气管内。 | ||
搜索关键词: | 一种 蒸馏 真空炉 | ||
【主权项】:
一种两段蒸馏的真空炉,其特征在于:包括炉体(1)、坩埚Ⅰ(2)、坩埚Ⅱ(3)、温控加热构件Ⅰ、温控加热构件Ⅱ、冷凝室(4)、导气管(5)、坩埚支架(6)、支撑板Ⅰ(7)、支撑板Ⅱ(8),热电偶Ⅰ(9)、热电偶Ⅱ(10)、热电偶Ⅲ(11),坩埚支架(6)固定设置在炉体(1)底部,坩埚Ⅰ(2)设置在坩埚支架(6)上,支撑板Ⅰ(7)固定设置在炉体(1)内壁,支撑板Ⅱ(8)固定设置在炉体(1)内壁,冷凝室(4)固定设置在支撑板Ⅰ(7)上端、坩埚Ⅱ(3)设置在支撑板Ⅰ(7)下端且固定设置在支撑板Ⅱ(8)上端,冷凝室(4)与坩埚Ⅱ(3)连通,坩埚Ⅰ(2)和坩埚Ⅱ(3)通过导气管(5)连通,温控加热构件Ⅰ与坩埚Ⅰ(2)连接,温控加热构件Ⅱ与坩埚Ⅱ(3)连接,热电偶Ⅰ(9)设置在坩埚Ⅰ(2)内,热电偶Ⅱ(10)设置在坩埚Ⅱ(3)内、热电偶Ⅲ(11)设置在导气管(5)内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720356588.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种P507萃取洗涤装置
- 下一篇:一种两段蒸馏多级冷凝的真空炉