[实用新型]一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备

摘要

本实用新型公开了一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备，属于金刚石薄膜制备技术领域。其包括等离子炬，所述等离子炬的中心设置有阴极，所述阴极设置在引弧嘴的内部，阴极与引弧嘴之间设置有阳极通道，阳极通道上设置有氩气喷嘴，引弧嘴的外部周围设置有循环气体通道，循环气体通道与阳极通道连通，等离子炬的底部设置有阳极喷嘴，等离子炬周壁上设置有励磁线圈，等离子炬与励磁线圈之间设置有冷却通道,阳极喷嘴与沉积室连通。本实用新型提供的一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备，产量高，得到的金刚石薄膜涂层面积大，使用方便，适应不同沉积参数时功率要求。

主权项

一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备，其特征在于：包括等离子炬(1)，所述等离子炬(1)的中心设置有阴极(2)，所述阴极(2)设置在引弧嘴(3)的内部，阴极(2)与引弧嘴(3)之间设置有阳极通道(4)，阳极通道(4)上设置有氩气喷嘴(5)，引弧嘴(3)的外部周围设置有循环气体通道(6)，循环气体通道(6)与阳极通道(4)连通，等离子炬(1)的底部设置有阳极喷嘴(8)，等离子炬(1)周壁上设置有励磁线圈(9)，等离子炬(1)与励磁线圈(9)之间设置有冷却通道(10),阳极喷嘴(8)与沉积室(11)连通。