[实用新型]一种直写曝光光路系统有效
| 申请号： | 201720293682.9 | 申请日： | 2017-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN206649282U | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 赵华;陈海巍;茆晓华;戴续;宁震坤;吴长江;刘世林;程珂;钱聪;李显杰 | 申请（专利权）人： | 无锡影速半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司23211 | 代理人： | 张勇 |
| 地址： | 214135 江苏省无锡市新吴*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种直写曝光光路系统，属于直写曝光机技术领域，所述光路系统包括多排DMD组件，每排上的DMD组件组件成直线排列，相邻两排曝光组件交错分布，每个DMD组件组件都对应在相邻排两个DMD组件组件的中间位置；所述直写曝光光路系统可以避免Y轴往复运动带来的误差，图形不变形，确保图形拼接精确，无需步进方向的X轴，大大减小设备尺寸，减轻设备重量，适应绝大多数PCB生产商的场地要求，Y轴不需要进行往复运动，省去绝大多数加减速时间，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种直写曝光光路系统，所述光路系统包括多排DMD组件，每排上有多个DMD组件且这多个DMD组件成直线排列；相邻两排DMD组件交错分布，每个DMD组件在扫描方向上都对应在相邻排两个DMD组件之间的位置；每排上相邻两个DMD组件之间的在扫描方向上不能被覆盖的空白区域，在其它各排依次对应有DMD组件；各DMD组件共同覆盖整个曝光区域。
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