[实用新型]溅射靶和基板处理腔室有效
| 申请号： | 201720270416.4 | 申请日： | 2017-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN206927945U | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 马丁·李·里克;张富宏;王晓东 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容涉及一种溅射靶和一种基板处理腔室。本文提供用于改进溅射、或物理气相沉积(PVD)的设备。在一些实施方式中，一种溅射靶包括材料主体，具有背侧和相对的成型处理表面，其中所述成型处理表面包括内部环形凹部和外部环形凹部。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 处理 | ||
【主权项】：
一种溅射靶，其特征在于，所述溅射靶包括：材料主体，所述材料主体具有背侧和相对的成型处理表面，其中所述成型处理表面包括内部环形凹部和外部环形凹部。
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