[实用新型]溅射靶和基板处理腔室

权利要求书

1.一种溅射靶，其特征在于，所述溅射靶包括：

材料主体，所述材料主体具有背侧和相对的成型处理表面，其中所述成型处理表面包括内部环形凹部和外部环形凹部。

2.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述外部环形凹部是凸出的。

3.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述外部环形凹部包括两个直线倾斜侧部，它们在所述外部环形凹部的中心附近或所述中心处以钝角而会聚。

4.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述外部环形凹部包括两个直线倾斜侧部，它们以钝角与平坦中心部分相交。

5.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述内部环形凹部是凸出的。

6.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述内部环形凹部包括两个直线倾斜侧部，它们以钝角与平坦中心部分相交。

7.如权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述外部环形凹部包括两个直线倾斜侧部，它们以钝角与平坦中心部分相交，其中所述内部环形凹部包括两个直线倾斜侧部，它们以钝角与平坦中心部分相交，并且其中所述外部环形凹部的所述平坦中心部分小于所述内部环形凹部的所述平坦中心部分。

8.如权利要求1至7中任一项所述的溅射靶，其特征在于，所述内部环形凹部具有中心直径，所述中心直径被安置为更靠近所述材料主体的外径，而不是所述材料主体的中心。

9.如权利要求1至7中任一项所述的溅射靶，其特征在于，所述材料主体是盘形的。

10.如权利要求1至7中任一项所述的溅射靶，其特征在于，所述材料主体包括弯曲外周边缘。

11.如权利要求1至7中任一项所述的溅射靶，其特征在于，还包括被耦接到所述材料主体的所述背侧的背板。

12.如权利要求11所述的溅射靶，其特征在于，所述材料主体包括环形突部，所述环形突部从所述材料主体的所述背侧延伸，并且其中所述背板包括对应的环形凹部以与所述环形突部配合。

13.如权利要求11所述的溅射靶，其特征在于，所述背板包括多个插件，所述多个插件围绕所述背板而布置在所述背板702的外周边缘附近并且包围所述材料主体，其中所述插件从所述背板的面向处理容积表面突出。

14.一种基板处理腔室，其特征在于，包括：

腔室主体和腔室盖，所述腔室盖安置在所述腔室主体上，从而限定在所述腔室主体内的位于所述腔室盖下方的处理区域；

基板支撑件，所述基板支撑件安置在所述腔室主体内、与所述腔室盖相对；以及

溅射靶，所述溅射靶安置在所述腔室盖的附近、与所述基板支撑件相对，其中所述溅射靶如权利要求1至7中任一项所述。