[实用新型]一种真空吸管头有效
申请号: | 201720245051.X | 申请日: | 2017-03-14 |
公开(公告)号: | CN206806310U | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 姜龙;蒋冬华;赵吾阳;廖鹏宇;宋亮;邓治国 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空吸附技术领域,公开了一种真空吸管头。真空吸管头包括用于与真空吸管连接的连接部、与所述连接部固定连接的支撑部以及设置于所述支撑部表面的清洁装置。当采用本实用新型实施例提供的真空吸管头与真空吸管连接后对工艺腔室进行清洁时,清洁装置在对工艺腔室内的不良粒子源进行清洁的同时,真空吸管可以将清洁装置清洁的不良粒子源吸出腔室外,相比现有技术,大大地减少了扬尘现象的产生,并且缩短了作业时间,提高了对工艺腔室进行清洁的效率和质量,进一步可以提高在工艺腔室内进行成膜操作的产品的品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 吸管 | ||
【主权项】:
一种真空吸管头,其特征在于,包括用于与真空吸管连接的连接部、与所述连接部固定连接的支撑部以及设置于所述支撑部表面的清洁装置,所述支撑部为网状支撑部。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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