[实用新型]一种石墨框结构有效
申请号: | 201720186685.2 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN206624914U | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 丁飞;陆彦辉 | 申请(专利权)人: | 隆基乐叶光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司61200 | 代理人: | 张弘 |
地址: | 710018 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种石墨框结构,一种石墨框结构,包括石墨框本体,所述的石墨框本体上设置有多个子框,所述的子框的四个边均向内部倒角形成斜面,四个斜面底部向下形成用于放置工件的槽。该结构降低和解决石墨框在使用的中后期表面附着物对工件的影响,减少不良和报废,提高良品率,提供了一种石墨框结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 结构 | ||
【主权项】:
一种石墨框结构,其特征在于:包括石墨框本体(2),所述的石墨框本体(2)上设置有多个子框(1),所述的子框(1)的四个边均向内部倒角形成斜面,四个斜面底部向下形成用于放置工件(4)的槽(3)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的