[实用新型]一种石墨框结构有效
| 申请号： | 201720186685.2 | 申请日： | 2017-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN206624914U | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 丁飞;陆彦辉 | 申请（专利权）人： | 隆基乐叶光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司61200 | 代理人： | 张弘 |
| 地址： | 710018 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨框结构，其特征在于：包括石墨框本体(2)，所述的石墨框本体(2)上设置有多个子框(1)，所述的子框(1)的四个边均向内部倒角形成斜面，四个斜面底部向下形成用于放置工件(4)的槽(3)。
2.根据权利要求1所述的一种石墨框结构，其特征在于：所述的斜面与竖直面的夹角为60°。
3.根据权利要求1所述的一种石墨框结构，其特征在于：所述的槽(3)深度为0.5mm。
4.根据权利要求1所述的一种石墨框结构，其特征在于：所述的槽(3)与工件(4)间隙配合。
5.根据权利要求1所述的一种石墨框结构，其特征在于：所述的槽(3)边沿倒角为圆角(5)，圆角(5)的半径为106mm。
6.根据权利要求1所述的一种石墨框结构，其特征在于：所述的相邻子框(1)之间形成格栅，格栅的断面为阶梯倒角结构。
7.根据权利要求1所述的一种石墨框结构，其特征在于：所述的石墨框本体(2)矩阵排列4×6个子框(1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于隆基乐叶光伏科技有限公司，未经隆基乐叶光伏科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720186685.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种PECVD双面沉积设备
- 下一篇：一种胶体溶液制备及镀膜装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
