[实用新型]光学加工系统有效
| 申请号： | 201720082440.5 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN206573851U | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 李继刚 | 申请（专利权）人： | 李继刚 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙)33273 | 代理人： | 袁丽花 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光学加工系统，该系统包括沿光路方向依次设置的照明光源、空间光调制器、微透镜阵列和成像透镜，所述空间光调制器位于所述微透镜阵列的前焦面，所述成像透镜的前焦面与所述微透镜阵列的后焦面重合，所述空间光调制器为振幅型，具有二维分布的多个图块，所述微透镜阵列包括分布于同一平面内的多个微透镜，每个所述微透镜分别在主光轴方向上与一个所述图块对应。利用本实用新型系统和方法，至少具有以下优点无机械运动机构，响应快速可靠；设备性能更优；图形轮廓清晰；可以获得多种干涉图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 加工 系统 | ||
【主权项】：
一种光学加工系统，其特征在于，包括沿光路方向依次设置的照明光源、空间光调制器、微透镜阵列和成像透镜，所述空间光调制器位于所述微透镜阵列的前焦面，所述成像透镜的前焦面与所述微透镜阵列的后焦面重合，所述空间光调制器为振幅型，具有二维分布的多个图块，所述微透镜阵列包括分布于同一平面内的多个微透镜，每个所述微透镜分别在主光轴方向上与一个所述图块对应。
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