[实用新型]CVD炉反应腔多角度供气装置有效
申请号: | 201720073473.3 | 申请日: | 2017-01-21 |
公开(公告)号: | CN206438200U | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 黎静;陈景升;田青林;陆艳红;张顺 | 申请(专利权)人: | 江苏实为半导体科技有限公司 |
主分类号: | C30B25/14 | 分类号: | C30B25/14 |
代理公司: | 徐州市淮海专利事务所32205 | 代理人: | 李鹏 |
地址: | 221300 江苏省徐州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了CVD炉反应腔多角度供气装置,包括从外部伸入反应炉体的进气主管路,所述进气主管路通过中间连接管连接活动分支管路,且活动分支管路表面沿其长度方向设有多个气体喷出口,所述气体喷出口朝向依次排布的待加工工件;所述活动分支管路架设在反应炉体内部底板上的回转支撑座上,且活动分支管路上设有可驱动其旋转的驱动机构。本实用新型活动分支管路管体角度方向可以通过驱动机构调整,可以改变气体喷出口的喷出角度以及使气体喷出口朝向待加工工件的不同部位,从而补偿气流相对于工件的流场不均匀现象,使待加工工件各个部位与气流接触的几率保持相同,最终晶体外延生长均匀,整体提高了气体利用率,降低了成本。 | ||
搜索关键词: | cvd 反应 角度 供气 装置 | ||
【主权项】:
一种CVD炉反应腔多角度供气装置,其特征在于,包括从外部伸入反应炉体(10)的进气主管路(1),所述进气主管路(1)通过中间连接管(2)连接活动分支管路(3),且活动分支管路(3)表面沿其长度方向设有多个气体喷出口(4),所述气体喷出口(4)朝向依次排布的待加工工件(7);所述活动分支管路(3)架设在反应炉体(10)内部底板上的回转支撑座(6)上,且活动分支管路(3)上设有驱动机构(5),所述驱动机构(5)驱动活动分支管路(3)以其轴线为中心旋转。
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