[实用新型]一种加热均匀的SiC生长坩埚平台有效
申请号: | 201720036352.1 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN206624951U | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 宋生;宗艳民;于国建;梁庆瑞;柏文文 | 申请(专利权)人: | 山东天岳晶体材料有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;C30B29/36 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司37205 | 代理人: | 苗峻 |
地址: | 250000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本申请涉及SiC生产技术领域,具体为一种加热均匀的SiC生长坩埚平台。本申请提供了一种新型的SiC生长坩埚平台,该装置通过在石墨平台上的坩埚槽内铺设石墨毡,石墨毡内部均匀分布有电阻丝,电阻丝的端部裸露在石墨毡外部,加热时,直接在石墨毡上通电加热,使得石墨毡发热,从而进一步加热坩埚。这样设置,避免了直接给坩埚通电,而造成糊锅等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 加热 均匀 sic 生长 坩埚 平台 | ||
【主权项】:
一种加热均匀的SiC生长坩埚平台,其特征在于,包括长方体形石墨平台(2),所述的长方体形石墨平台(2)上开设有坩埚槽(1),且坩埚槽1凹陷在长方体形石墨平台(2)内部,开口与长方体形石墨平台(2)的上表面平齐;所述的坩埚槽(1)内铺设石墨毡(6),且石墨毡(6)内部均匀分布有电阻丝(5),电阻丝(5)的端部裸露在石墨毡(6)的外部,SiC生长坩埚(7)放置在坩埚槽(1)内部,其外表面与裸露的电阻丝端部相接。
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