[发明专利]基于霍夫变换及高斯拟合的面内mura检测方法及检测系统有效
申请号: | 201711479755.4 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN108074238B | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 王艳雪 | 申请(专利权)人: | 惠州市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/13;G06T7/136;G06T7/44 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;武岑飞 |
地址: | 516000 广东省惠州市仲恺高新技术*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于霍夫变换及高斯拟合的面内mura检测方法及检测系统,检测方法包括:S1、获取原始灰阶图像;S2、根据灰阶图像获取二值化图像;S3、通过霍夫变换进行边缘检测,进而对灰阶图像的边缘进行剪裁;S4、对剪裁后的灰阶图像进行直方图统计,将直方图进行高斯函数拟合,根据拟合参数检测面内mura的程度。本发明通过霍夫变换确定显示区图像,从而获得面内mura检测区域,使用高斯函数拟合,通过拟合而来的参数,评价面内mura的严重程度,实现了面内mura的快速检测。 | ||
搜索关键词: | 基于 变换 拟合 mura 检测 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种基于霍夫变换及高斯拟合的面内mura检测方法,其特征在于,所述检测方法包括:S1、获取原始灰阶图像;S2、根据灰阶图像获取二值化图像;S3、通过霍夫变换进行边缘检测,进而对灰阶图像的边缘进行剪裁;S4、对剪裁后的灰阶图像进行直方图统计,将直方图进行高斯函数拟合,根据拟合参数检测面内mura的程度。
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