[发明专利]一种对置靶座磁控溅射装置在审
| 申请号： | 201711477439.3 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108018535A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 顾骏;顾为民;任高潮;金浩;王德苗;冯斌 | 申请（专利权）人： | 苏州求是真空电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;俞翠华 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对置靶座磁控溅射装置，包括磁控溅射靶座、磁控溅射基台座、夹持压片和挡板组件；所述磁控溅射靶座安装在真空室上方；所述磁控溅射基台座安装在真空室下方，其与所述磁控溅射靶座之间具有夹角，所述夹角为锐角；所述夹持压片设于磁控溅射基台座的顶表面，用于夹持固定待溅射基片；所述挡板组件包括多个挡板，其中一个挡板设于磁控溅射基台座的上方，其余的挡板分别设于对应的磁控溅射靶座下方，用于隔开磁控溅射各个靶座和磁控溅射基台座。本发明既可以实现对基片材料的在线等离子清洗功能，同时可以减小电子对基片的轰击。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 置靶座 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种对置靶座磁控溅射装置，其特征在于：包括磁控溅射靶座、磁控溅射基台座、夹持压片和挡板组件；所述磁控溅射靶座安装在真空室上方；所述磁控溅射基台座安装在真空室下方，其与所述磁控溅射靶座之间的具有夹角，所述夹角为锐角；所述夹持压片设于磁控溅射基台座的顶表面，用于夹持固定待溅射基片；所述挡板组件包括多个挡板，其中一个挡板设于磁控溅射基台座的上方，其余的挡板分别设于对应的磁控溅射靶座下方，用于隔开磁控溅射靶座和磁控溅射基台座。
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