[发明专利]一种光引发交联聚合物隔离膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201711474230.1 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108192116B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 程跃;熊磊 | 申请（专利权）人： | 上海恩捷新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08F255/02;C08L23/06;C08K5/134;H01M50/403;H01M50/411 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201399 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供一种光引发交联聚合物隔离膜及其制备方法，所述隔离膜包括交联聚合的高分子量聚乙烯、抗氧化剂、助交联剂以及光引发剂，所述高分子量聚乙烯的平均分子量介于10.0×10 |
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| 搜索关键词： | 一种 引发 交联 聚合物 隔离 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光引发交联聚合物隔离膜，其特征在于，所述隔离膜包括交联聚合的高分子量聚乙烯、抗氧化剂、助交联剂以及光引发剂，所述高分子量聚乙烯的平均分子量介于10.0×104～1000×104之间且密度介于0.940～0.976g/cm3之间；按所述高分子量聚乙烯的重量为100份计，所述抗氧化剂的重量介于0.1～10份之间，所述助交联剂的重量介于0.1～10份之间，所述光引发剂的重量介于0.1～10份之间。
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