[发明专利]黑色矩阵与间隔物的制作方法

摘要

本发明公布了一种黑色矩阵与间隔物的制作方法，包括：提供衬底基板，在衬底基板上涂布黑色光刻胶层；在黑色光刻胶层上涂布透明光刻胶层；提供多色调掩膜板，多色调掩膜板包括第一透光区和第二透光区，第一透光区的透光率大于第二透光区的透光率，透明光刻胶层和黑色光刻胶层包括正对第一透光区的第一部分及正对第二透光区的第二部分，采用多色调掩膜板曝光透明光刻胶层和黑色光刻胶层，第一部分的透明光刻胶层用于形成主间隔物，第一部分的黑色光刻胶层用于形成第一黑色矩阵，主间隔物层叠于第一黑色矩阵上，第二部分透明光刻胶层用于形成辅间隔物，第二部分的黑色光刻胶层用于形成第二黑色矩阵，主间隔物层叠于第二黑色矩阵上。

主权项

一种黑色矩阵与间隔物的制作方法，其特征在于，包括：提供衬底基板，在所述衬底基板上涂布黑色光刻胶层；在所述黑色光刻胶层上涂布透明光刻胶层；提供多色调掩膜板，所述多色调掩膜板包括第一透光区和第二透光区，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率，所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层包括正对所述第一透光区的第一部分及正对所述第二透光区的第二部分，采用所述多色调掩膜板曝光所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层，所述第一部分的所述透明光刻胶层用于形成主间隔物，所述第一部分的所述黑色光刻胶层用于形成第一黑色矩阵，所述主间隔物层叠于所述第一黑色矩阵上，所述第二部分所述透明光刻胶层用于形成辅间隔物，所述第二部分的所述黑色光刻胶层用于形成第二黑色矩阵，所述主间隔物层叠于所述第二黑色矩阵上。