[发明专利]黑色矩阵与间隔物的制作方法在审
申请号: | 201711473164.6 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN108153040A | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 于承忠 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻胶层 黑色矩阵 透光区 主间隔物 间隔物 掩膜板 透明 色调 衬底基板 透光率 正对 部分透明 涂布黑色 制作 曝光 | ||
本发明公布了一种黑色矩阵与间隔物的制作方法,包括:提供衬底基板,在衬底基板上涂布黑色光刻胶层;在黑色光刻胶层上涂布透明光刻胶层;提供多色调掩膜板,多色调掩膜板包括第一透光区和第二透光区,第一透光区的透光率大于第二透光区的透光率,透明光刻胶层和黑色光刻胶层包括正对第一透光区的第一部分及正对第二透光区的第二部分,采用多色调掩膜板曝光透明光刻胶层和黑色光刻胶层,第一部分的透明光刻胶层用于形成主间隔物,第一部分的黑色光刻胶层用于形成第一黑色矩阵,主间隔物层叠于第一黑色矩阵上,第二部分透明光刻胶层用于形成辅间隔物,第二部分的黑色光刻胶层用于形成第二黑色矩阵,主间隔物层叠于第二黑色矩阵上。
技术领域
本发明涉及显示设备技术领域,尤其是涉及一种黑色矩阵与间隔物的制作方法。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)是目前平面显示器的主流,其原理是利用液晶分子的介电各向异性与导电各向异性,在外加电场时使液晶分子的排列状态转换,造成液晶薄膜产生各种光电效应。传统的液晶显示器的结构为两片玻璃基板中间夹有液晶层,在其中一片玻璃基板上制备薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT),即阵列基板,用于驱动液晶的旋转,控制每个像素的显示;另一块基板上制备R、G、B彩色滤光层,即彩膜基板,用于形成每个像素的色彩。目前,通常在彩膜基板上制作光阻间隔物(PhotoSpacer,PS)和黑色矩阵(Black Matrix,BM),间隔物用于支撑液晶盒厚,以在彩膜基板和阵列基板之间隔离出液晶注入的间隙,黑色矩阵主要起遮光作用,防止扫描线和数据线漏光,提高对比度,以达到较佳的显示效果。
现有技术中,制作间隔物和黑色矩阵各需要一道独立的黄光制程,导致液晶显示器的制作工序复杂,生产成本高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种黑色矩阵与间隔物的制作方法,用以解决现有技术中黑色矩阵与间隔物的制作工序复杂,生产成本高的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种黑色矩阵与间隔物的制作方法,包括:
提供衬底基板,在所述衬底基板上涂布黑色光刻胶层;
在所述黑色光刻胶层上涂布透明光刻胶层;
提供多色调掩膜板,所述多色调掩膜板包括第一透光区和第二透光区,所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率,所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层包括正对所述第一透光区的第一部分及正对所述第二透光区的第二部分,采用所述多色调掩膜板曝光所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层,所述第一部分的所述透明光刻胶层用于形成主间隔物,所述第一部分的所述黑色光刻胶层用于形成第一黑色矩阵,所述主间隔物层叠于所述第一黑色矩阵上,所述第二部分所述透明光刻胶层用于形成辅间隔物,所述第二部分的所述黑色光刻胶层用于形成第二黑色矩阵,所述主间隔物层叠于所述第二黑色矩阵上。
一种实施方式中,利用所述多色调掩膜板曝光所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层后,所述方法还包括,采用显影液处理所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层,所述第一部分的所述透明光刻胶层保留并形成所述主间隔物,所述第一部分的所述黑色光刻胶层保留并形成所述第一黑色矩阵,所述显影液部分溶解所述第二部分的所述透明光刻胶层,所述第二部分剩余的所述透明光刻胶层保留并形成所述辅间隔物,所述第二部分的所述黑色光刻胶层保留并形成所述第二黑色矩阵。
一种实施方式中,所述第一透光区包括全透光区和第一半透光区,所述全透光区位于所述第一半透光区内,采用所述多色调掩膜板曝光所述透明光刻胶层和所述黑色光刻胶层并显影后,形成的所述主间隔物在所述衬底基板上的垂直投影位于所述第一黑色矩阵的范围内。
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