[发明专利]一种鉴定工业化体块SiC单晶晶型的方法有效
申请号: | 201711459794.8 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN107976410B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 杨昆;杨继胜;牛晓龙;刘新辉;路亚娟 | 申请(专利权)人: | 河北同光晶体有限公司 |
主分类号: | G01N21/29 | 分类号: | G01N21/29;G01N21/65 |
代理公司: | 北京连城创新知识产权代理有限公司 11254 | 代理人: | 刘伍堂 |
地址: | 071051 河北省保定市北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明涉及一种鉴定工业化体块SiC单晶晶型的方法,主要包括如下步骤:(1)将被测体块SiC样品置入加热炉,控制光照条件,在室温下观察所述SiC样品的颜色;(2)将所述SiC样品加热至200‑450℃;(3)控制与步骤(1)相同的所述光照条件,观察加热后的SiC样品的颜色,颜色发生显著加深的是6H‑SiC晶型,否则为4H‑SiC晶型。本发明利用4H‑SiC及6H‑SiC禁带宽度差及200‑450℃之间对可见光吸收的差异,通过颜色的变化实现晶型判断,本发明简单便捷,测试成本低且无需昂贵复杂的表征设备。 | ||
搜索关键词: | 一种 鉴定 工业化 sic 单晶晶型 方法 | ||
【主权项】:
一种鉴定工业化体块SiC单晶晶型的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将被测体块SiC样品置入加热炉,控制光照条件,在室温下观察所述SiC样品的颜色;(2)将所述SiC样品加热至200‑450℃;(3)控制与步骤(1)相同的所述光照条件,观察加热后的SiC样品的颜色,颜色发生显著加深的是6H‑SiC晶型,否则为4H‑SiC晶型。
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