[发明专利]化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201711458964.0 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108255015B | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 小竹正晃;渡边聪;增永惠一;山田健司;大桥正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的锍化合物和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成过程中显示出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。 |
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| 搜索关键词： | 化学 增幅 型负型抗蚀剂 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.负型抗蚀剂组合物，包括(A)具有式(A)的锍化合物和(B)基础聚合物，该基础聚合物含有包含具有式(B1)的重复单元的聚合物，![]()
其中R1、R2和R3各自独立地为可含有杂原子的C1‑C20直链、支化或环状的一价烃基，p和q各自独立地为0‑5的整数，r为0‑4的整数，在p＝2‑5的情况下，两个相邻的基团R1可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，在q＝2‑5的情况下，两个相邻的基团R2可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，在r＝2‑4的情况下，两个相邻的基团R3可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，![]()
其中RA为氢、氟、甲基或三氟甲基，R11各自独立地为卤素、任选卤代的C2‑C8直链、支化或环状的酰氧基、任选卤代的C1‑C6直链、支化或环状的烷基、或者任选卤代的C1‑C6直链、支化或环状的烷氧基，A1为单键或者C1‑C10直链、支化或环状的亚烷基，其中醚键可介于碳‑碳键之间，s为0或1，w为0‑2的整数，a为满足0≤a≤5+2w‑b的整数，并且b为1‑3的整数。
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