[发明专利]化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.负型抗蚀剂组合物，包括具有式(A)的锍化合物和(B)基础聚合物，该基础聚合物含有包含具有式(B1)的重复单元和选自具有式(B2)、(B3)和(B4)的重复单元中的至少一种的重复单元的聚合物，

其中R¹、R²和R³各自独立地为可含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支化或环状的一价烃基，p和q各自独立地为0-5的整数，r为0-4的整数，在p＝2-5的情况下，两个相邻的基团R¹可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，在q＝2-5的情况下，两个相邻的基团R²可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，在r＝2-4的情况下，两个相邻的基团R³可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，

其中R^A为氢、氟、甲基或三氟甲基，R¹¹各自独立地为卤素、任选卤代的C₂-C₈直链、支化或环状的酰氧基、任选卤代的C₁-C₆直链、支化或环状的烷基、或者任选卤代的C₁-C₆直链、支化或环状的烷氧基，A¹为单键或者C₁-C₁₀直链、支化或环状的亚烷基，其中醚键可介于碳-碳键之间，s为0或1，w为0-2的整数，a为满足0≤a≤5+2w-b的整数，并且b为1-3的整数，

其中R^A如上所定义，R¹²和R¹³各自独立地为羟基、卤素、任选卤代的C₂-C₈直链、支化或环状的酰氧基、任选卤代的C₁-C₈直链、支化或环状的烷基、或者任选卤代的C₁-C₈直链、支化或环状的烷氧基，R¹⁴为乙酰基、C₁-C₂₀直链、支化或环状的烷基、C₁-C₂₀直链、支化或环状的烷氧基、C₂-C₂₀直链、支化或环状的酰氧基、C₂-C₂₀直链、支化或环状的烷氧基烷基、C₂-C₂₀烷硫基烷基、卤素原子、硝基、氰基、亚硫酰基、或者磺酰基，A²为单键或C₁-C₁₀直链、支化或环状的亚烷基，其中醚键可介于碳-碳键之间，c和d各自独立地为0-4的整数，e为0-5的整数，x为0-2的整数，并且t为0或1。

2.如权利要求1所述的负型抗蚀剂组合物，其中该聚合物还包含具有式(B5)的重复单元：

其中R^A如上所定义，A³为单键或者其中醚键可介于碳-碳键之间的C₁-C₁₀直链、支化或环状的亚烷基，R¹⁵各自独立地为卤素、任选卤代的C₂-C₈直链、支化或环状的酰氧基、任选卤代的C₁-C₆直链、支化或环状的烷基、或者任选卤代的C₁-C₆直链、支化或环状的烷氧基，W为氢、其中醚基、羰基或羰氧基可介于碳-碳键之间的C₁-C₁₀直链、支化或环状的一价脂族烃基、或者任选取代的一价芳环基团，Rx和Ry各自独立地为氢、任选羟基或烷氧基取代的C₁-C₁₅烷基或者任选取代的一价芳环基团，条件是Rx和Ry两者不同时为氢，Rx和Ry可以键合在一起以与它们所结合的碳原子形成环，y为0-2的整数，u为0或1，f为满足0≤f≤5+2y-g的整数，并且g为1-3的整数。