[发明专利]一种使用粉料的铸造多晶硅靶材的方法有效
申请号: | 201711457083.7 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN108149316B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 王峰;张磊;姚玉杰 | 申请(专利权)人: | 青岛蓝光晶科新材料有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
地址: | 266200 山东省青岛市即墨市蓝色*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及多晶硅靶材铸造技术领域,特别涉及一种使用粉料的铸造多晶硅靶材的方法。本发明在多晶硅靶材铸造过程中,通过装料方法、工艺控制的改善,达到微米级粉料彻底熔化避免粘埚的目的,得到符合要求的靶材整锭;通过此方法可将降低对原料颗粒度的要求,从而降低了使用原料的成本;通过该方法避免由粘埚产生的硅锭裂纹,提高多晶硅靶材整锭的品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 使用 铸造 多晶 硅靶材 方法 | ||
【主权项】:
一种使用粉料的铸造多晶硅靶材的方法,其特征是:包括以下步骤:(1)装料过程中,首先在底部装入3‑10mm的多晶硅颗粒料20‑30kg,并将底部铺满,边部使用块状料进行护边后,装入300‑600kg粉料,并铺平;在粉料顶部再铺3‑10mm的多晶硅颗粒料30‑50kg,在颗粒料的顶部放置200‑300kg块状料进行压实;(2)将装好的硅料投炉后手动低速抽真空,加热使石墨器件、隔热层、原料等的湿气蒸发,并在3~4h时间达到1000‑1200℃;通入氩气作为保护气,使炉内压力保持在40~60KPa,使坩埚内温度在4‑6h内快速到达1400~1460℃进入熔化阶段,此过程中隔热笼始终在关闭状态;(3)在熔化阶段,温度逐步从1400~1460℃经过7‑9h升高到1540~1560℃,直至硅料完全融化,待硅料完全且顶部观察窗观察无漂浮物后继续保温1‑2h,保证粉料完全熔化,以尽可能多的排除硅液中可挥发性的杂质,然后,跳步至长晶阶段;(4)长晶过程中,温度从1540℃‑1560℃经过26‑30h缓慢降低到1400‑1410℃,完成长晶阶段;(5)晶体生长完成后,晶锭在1350~1390℃的退火温度保持4~5h时间,使得晶锭的温度均匀,从而减小热应力,降低产生裂纹的风险;(6)降温阶段,炉内通入大流量氩气,使温度逐渐降低到300℃后取出硅锭,防止出现裂纹。
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