[发明专利]一种CMP抛光液的制备方法

摘要

本发明涉及一种CMP抛光液的制备方法，具体为：先将磨料与水混合，再依次加入表面活性剂、成膜剂、pH调节剂和抛光促进剂，且每加入一种原料后，对其进行充分搅拌。本申请所述的方法能避免原料间的相互作用，使各原料充分地发挥作用，使抛光去除速率、抛光后的晶片表面粗糙度和平整度等各项性能指标都能得到明显的提高，抛光效果的稳定性更好，制备过程中不需要净化室和真空负压搅拌设备，只需要普通的密闭空间和搅拌设备即可，节省了生产成本和日常的维护费用。而且本发明的方法制备的抛光液性能稳定，可重复多次使用，甚至循环使用6～10h，都可保持稳定的性能。

主权项

1.一种CMP抛光液的制备方法，其特征在于，所述的CMP抛光液包含磨料、表面活性剂、成膜剂、pH值调节剂、抛光促进剂和水，所述的制备方法包括如下步骤：1)边搅拌边将磨料与水混合，使其混合均匀；2)在步骤1)的溶液中边搅拌边加入表面活性剂，加入完成后继续搅拌至混合均匀；3)在步骤2)所得的溶液中边搅拌边加入成膜剂，加入完成后继续搅拌至混合均匀；4)在步骤3)所得溶液中边搅拌边加入pH值调节剂，加入完成后继续搅拌至混合均匀；5)在步骤4)所得溶液中边搅拌边加入抛光促进剂，加入完成后继续搅拌至各组分充分混合均匀；6)对步骤5)所得溶液进行过滤，即得。