[发明专利]基座组件及处理室

摘要

本发明涉及基座组件及处理室。本文所描述的是气体分配组件及由数个扇形(pie‑shaped)区段制成的基座组件，该数个扇形区段可以被个别地整平、移动或变换。本文还描述的是包含气体分配组件、基座组件及感测器的处理室，并具有反馈电路来调整该基座和该气体分配组件之间的缝隙。本文还描述的是使用该等气体分配组件、基座组件及处理室的方法。

主权项

一种基座组件，包括：石英底座，所述石英底座具有多个环形气体通道，所述环形气体通道与多个孔流体连通，使得气体能够流过所述环形气体通道并且穿过所述石英底座的顶部流出所述孔；可转动中心支座，所述可转动中心支座包括多个辐条，所述多个辐条自中心轴延伸而形成装有辐条的框架，所述多个辐条支撑所述石英底座；以及多个扇形区段，所述多个扇形区段围绕所述可转动中心支座而径向设置，其中每一个扇形区段的至少一部分接触所述可转动中心支座并且所述多个扇形区段中的每一个由所述石英底座支撑，其中所述石英底座从所述中心轴的边缘延伸到所述扇形区段的外周缘，并且流过所述气体通道并流出所述孔的气体是可调整的从而向所述多个扇形区段施加压力并整平所述多个扇形区段。