[发明专利]基座组件及处理室

权利要求书

1.一种基座组件，包括：

石英底座，所述石英底座具有多个环形气体通道，所述环形气体通道与多个孔流体连通，使得气体能够流过所述环形气体通道并且穿过所述石英底座的顶部流出所述孔；

可转动中心支座，所述可转动中心支座包括多个辐条，所述多个辐条自中心轴延伸而形成装有辐条的框架，所述多个辐条支撑所述石英底座；以及

多个扇形区段，所述多个扇形区段围绕所述可转动中心支座而径向设置，其中每一个扇形区段的至少一部分接触所述可转动中心支座并且所述多个扇形区段中的每一个由所述石英底座支撑，

其中所述石英底座从所述中心轴的边缘延伸到所述扇形区段的外周缘，并且流过所述气体通道并流出所述孔的气体是可调整的从而向所述多个扇形区段施加压力并整平所述多个扇形区段。

2.如权利要求1所述的基座组件，其中所述扇形区段中的每一个通过至少两个连接点连接至所述中心支座。

3.一种处理室，包括：

气体分配组件；

如权利要求1所述的基座组件；

感测器，所述感测器被定位来测定所述气体分配组件与所述基座组件之间的距离；

多个气体轴承垫；以及

反馈电路，所述反馈电路连接所述感测器与多个气体轴承垫，所述多个气体轴承垫用以将所述基座组件的全部或一部分移动更靠近及进一步远离所述气体分配组件。

4.如权利要求3所述的处理室，其中所述基座组件的所述扇形区段中的每一个通过至少两个连接点连接至所述中心支座。

5.如权利要求3所述的处理室，其中所述气体轴承垫被定位在所述基座组件上方和下方以独立地移动所述扇形区段中的每一个。

6.如权利要求3所述的处理室，其中所述气体轴承垫被定位成以下中的一者或多者：定位在所述基座组件的外周缘处或朝向所述基座组件的所述中心轴并邻近所述扇形区段的内缘而定位。

7.一种基座组件，包括：

可转动中心支座，所述可转动中心支座包括中心轴和石英底座，所述石英底座包括多个气体通道，所述多个气体通道与多个孔流体连通，所述多个气体通道从所述石英底座的内周缘延伸到所述石英底座的外周缘；以及

多个石英扇形区段，所述多个石英扇形区段围绕所述可转动中心支座而径向设置，其中每一个石英扇形区段的至少一部分接触所述可转动中心支座并且所述多个石英扇形区段中的每一个从所述中心轴到所述扇形区段的所述外周缘由所述石英底座支撑，

其中所述多个孔允许气体流过所述气体通道而离开所述气体通道并且向所述扇形区段施加压力并且整平所述多个扇形区段。

8.如权利要求7所述的基座组件，其中所述扇形区段中的每一个通过至少两个连接点连接至所述中心支座。

9.一种处理室，包括：

气体分配组件；

如权利要求7所述的基座组件；

感测器，所述感测器被定位来测定所述气体分配组件与所述基座组件之间的距离；

多个气体轴承垫；以及

反馈电路，所述反馈电路连接所述感测器与多个气体轴承垫，所述多个气体轴承垫用以将所述基座组件的全部或一部分移动更靠近及进一步远离所述气体分配组件。

10.如权利要求9所述的处理室，其中所述基座组件的所述扇形区段中的每一个通过至少两个连接点连接至所述中心支座。

11.如权利要求9所述的处理室，其中所述气体轴承垫被定位在所述基座组件上方和下方以独立地移动所述扇形区段中的每一个。

12.如权利要求9所述的处理室，其中所述气体轴承垫被定位成以下中的一者或多者：定位在所述基座组件的外周缘处或朝向所述基座组件的所述中心轴并邻近所述扇形区段的内缘而定位。