[发明专利]二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片有效

专利信息
申请号: 201711376745.8 申请日: 2017-12-19
公开(公告)号: CN108325540B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 何军;张玉 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: B01J27/047 分类号: B01J27/047;B01J35/02;B82Y30/00;B82Y40/00;C25B1/04;C25B11/06
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君;王文红
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片,其生长于基底表面,从基底向上的第一层为单层的二硫化钨层,二硫化钨层上方至少部分覆盖有二硫化铌层,二硫化铌层的厚度为4‑6nm。本发明还提出所述二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片的制备和应用。本发明提出的NbS2/WS2异质结具有化学性稳定、结晶性好和高电化学活性面积等优点,该NbS2/WS2异质结电化学析氢性能良好、稳定性好,可用于电解水制氢相关领域。
搜索关键词: 硫化 铌异质结 纳米
【主权项】:
1.一种二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片,其特征在于,生长于基底表面,从基底向上的第一层为单层的二硫化钨层,二硫化钨层上方至少部分覆盖有二硫化铌层,二硫化铌层的厚度为4~6nm。
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