[发明专利]二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片有效
申请号: | 201711376745.8 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN108325540B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 何军;张玉 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | B01J27/047 | 分类号: | B01J27/047;B01J35/02;B82Y30/00;B82Y40/00;C25B1/04;C25B11/06 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王文君;王文红 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明提出一种二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片,其生长于基底表面,从基底向上的第一层为单层的二硫化钨层,二硫化钨层上方至少部分覆盖有二硫化铌层,二硫化铌层的厚度为4‑6nm。本发明还提出所述二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片的制备和应用。本发明提出的NbS |
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搜索关键词: | 硫化 铌异质结 纳米 | ||
【主权项】:
1.一种二硫化钨/二硫化铌异质结纳米片,其特征在于,生长于基底表面,从基底向上的第一层为单层的二硫化钨层,二硫化钨层上方至少部分覆盖有二硫化铌层,二硫化铌层的厚度为4~6nm。
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