[发明专利]常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法在审

专利信息
申请号: 201711363336.4 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN108134207A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 王岩松;高劲松;徐念喜 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q1/42
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及FSS天线罩制作技术领域,具体公开一种常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法。制作方法包括步骤:S1、通过三维建模软件对三维掩膜壳体进行三维建模;S2、输入3D打印设备中成型;S3、将成型的三维掩膜壳体附于基底介质壳体上,使两层壳体紧密贴合,在未被三维掩膜壳体遮挡的基底介质壳体表面制备金属膜层,形成金属贴片图形阵列;S4、将三维掩膜壳体取下,对基底介质壳体进行清洗、干燥。本发明的制作方法可以更加方便快捷地制作常规贴片型曲面FSS阵列。
搜索关键词: 掩膜壳体 制作 基底介质 三维 贴片 频率选择表面 壳体 成型 三维建模软件 打印设备 金属膜层 金属贴片 紧密贴合 壳体表面 两层壳体 三维建模 图形阵列 天线罩 取下 遮挡 制备 清洗
【主权项】:
一种常规贴片型曲面频率选择表面阵列的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括步骤:S1、通过三维建模软件对三维掩膜壳体进行三维建模,所述三维掩膜壳体与基底介质壳体的外形轮廓满足共形条件,得到三维掩膜壳体模型;S2、将所述三维掩膜壳体模型输入3D打印设备中成型,得到三维掩膜壳体;S3、将所述三维掩膜壳体附于基底介质壳体上,使两层壳体紧密贴合,在未被三维掩膜壳体遮挡的基底介质壳体表面制备金属膜层,形成金属贴片图形阵列;S4、将三维掩膜壳体取下,对基底介质壳体进行清洗、干燥,得到所述常规贴片型曲面频率选择表面阵列。
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