[发明专利]一种超导约瑟夫森结的制备方法

摘要

本发明公开了一种超导约瑟夫森结的制备方法，属于超导电路元件领域。本发明的步骤为：1)基片预处理，得干净基片；2)电子束曝光：在基片上涂电子束胶，使用电子束曝光设备在基片上曝光出A区域、B区域，A区域、B区域有交叉区域C；3)显影：将装有显影液的容器放在液体中，监测显影液的温度，待显影液温度达到拟定的温度并稳定维持在该温度时，将所述所述步骤2)得到的基片浸入所述显影液并晃动显影，然后定影，使得电子束胶形成的图形稳定下来；4)两次斜蒸发镀膜；5)金属剥离。本发明利用电子束曝光掩膜技术以及电子束镀膜和金属剥离技术，其工艺相对简单，避免了复杂的悬胶制备工艺，可以在一天内进行批量的超导约瑟夫森结样品制备。

主权项

1.一种超导约瑟夫森结的制备方法，其步骤为：1)基片预处理选用电阻率＞10000欧姆*厘米的材料作为衬底基片(1)；对基片进行清洗，然后将基片转移到装有异丙醇的容器中进行浸泡，再将基片转移到装有去离子水的容器中进行浸泡，最后取出基片用惰性气体吹干，得干净基片；2)电子束曝光在基片上涂电子束胶(5)，使用电子束曝光设备在基片上曝光出A区域(2)、B区域(3)，A区域、B区域有交叉区域C(4)；3)在拟定温度下显影将装有显影液的容器放在液体中，监测显影液的温度，待显影液温度达到拟定的温度并稳定维持在该温度时，将所述所述步骤2)得到的基片浸入所述显影液并晃动显影30～180秒，然后在异丙醇中定影，使得电子束胶(5)形成的图形稳定下来；4)两次斜蒸发镀膜首先，在离子束刻蚀腔体里分别从不同方向对曝光显影完的基片进行刻蚀；然后，进行蒸发沉积镀膜，在镀膜机里对A区域(2)、B区域(3)分别进行斜蒸发镀膜来制备超导约瑟夫森结；5)金属剥离采用去胶溶液浸泡所述的步骤4)得到的基片，清理基片表面。