[发明专利]一种镜框真空镀电气石的方法在审
申请号: | 201711353553.5 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108048806A | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 吴晓彤 | 申请(专利权)人: | 奥特路(漳州)光学科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06;B29C45/76;B29C45/78;C08L69/00;C08K3/32;C08K3/08;B29K69/00 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 翁志霖 |
地址: | 360000 福建省漳*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明公开一种镜框真空镀电气石的方法,包括以下步骤:1)将电气石粉在远红外设备中进行电磁共振活化处理,然后加入电气石粉重量的1~1.5%的环氧基硅烷偶联剂进行改性处理;2)将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10 |
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搜索关键词: | 一种 镜框 真空 电气石 方法 | ||
【主权项】:
1.一种镜框真空镀电气石的方法,其特征在于:其包括以下步骤:1)将电气石粉在远红外设备中进行电磁共振活化处理,活化处理温度为600-800℃,活化处理时间为1-2小时,活化处理完毕后,隔绝空气自然冷却至室温,得到活化后的电气石粉;2)将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3 帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用霍尔离子源轰击活化后的电气石粉,电气石粉蒸发后以纳米级分子形式沉积于烘干成型后的镜框外表面,同时控制蒸镀速率为5Å/S,最终在镜框外表面形成厚度为5-10nm的电气石层。
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