[发明专利]成像设备

摘要

提供一种成像设备，包括感光鼓、曝光头、基框架和弹簧。曝光头包括光发射器、透镜阵列和头框架，且能够在可暴露位置和缩回位置之间移动。基框架支撑感光鼓且包括基准面。基准面被构造为：当曝光头在可暴露位置处时，通过被曝光头的头框架接触，限定曝光头的就正交于来自光发射器的光的光轴方向和感光鼓的旋转轴线方向的副扫描方向而言的位置。弹簧被布置在头框架中且朝向基准面挤压头框架。

主权项

1.一种成像设备，包括：感光鼓；曝光头，所述曝光头包括：多个光发射器，所述多个光发射器沿着所述感光鼓的旋转轴线方向对准；透镜阵列，所述透镜阵列将来自所述光发射器的光聚焦在所述感光鼓上；和头框架，所述头框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列，所述曝光头能够在可暴露位置和缩回位置之间移动，在所述可暴露位置中所述感光鼓被暴露于光，在所述缩回位置中所述曝光头离所述感光鼓比在所述可暴露位置中的所述曝光头离所述感光鼓远；基框架，所述基框架支撑所述感光鼓，所述基框架包括基准面，所述基准面被构造为当所述曝光头在所述可暴露位置处时通过被所述曝光头的所述头框架接触而限定所述曝光头的就副扫描方向而言的位置，所述副扫描方向正交于所述光的光轴方向和所述旋转轴线方向；和弹簧，所述弹簧被布置在所述头框架中，所述弹簧将所述头框架朝向所述基准面挤压。